太洋株式会社 / 研究用高純度シリコンウェハー　2×N型

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研究用高純度シリコンウェハー 2×N型 25枚入

82,800円 (販売価格 91,080 円)

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入数: 1箱(25枚入り)
特徴: ●研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
仕様: ●サイズ(インチ)×伝導型:2×N型
●OF長さ(mm)×ウェハー厚(μm):17.5±2.5×280±25
●入数:1箱(25枚入)
●製造方法:CZ法
●面方位:100
●OF位置:110
●抵抗値:0.1〜100Ω・cm　※低抵抗:≦0.02Ω・cm、高抵抗:≧500Ω・cm
●パーティクル:≧0.3μm、10個以下
●※特注対応品:
●▼方位(切断角度)、OF位置角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
●▼多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。
●▼ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
●▼8インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください(最低単位25枚)。
●※本製品は半導体向けの結晶材を使用し製造加工しておりますが、材料純度に関する証明等に対応できるものではありません。